酸化ガリウムのエピウエハの開発・製造・販売を行う「ノベルクリスタルテクノロジー」が資金調達

2022年5月12日、株式会社ノベルクリスタルテクノロジーは、資金調達を実施したことを発表しました。

引受先は、ローム株式会社です。

ノベルクリスタルテクノロジーは、β型酸化ガリウム（β-Ga2O3）エピウエハの開発・製造・販売や、パワーデバイスの開発を行っています。

2022年5月現在、100mnエピウエハ・基盤と2inchエピウエハ・基盤を製造・販売し、150mn基盤とパワーデバイスを開発しています。

今回の資金は、β型酸化ガリウムの事業化の推進に充当します。

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半導体とは、電気を通す導体と電気をほとんど通さない絶縁体の中間の物質です。特定の状況下では電気を通したり、通しにくくしたりする伝導特性を持っています。

ほとんどの電子部品はこの半導体を素材として利用しています。半導体にはシリコン（Si）、シリコンカーバイド（SiC）、窒化ガリウム（GaN）などがあります。特にシリコンは、他の素材と比べて歴史も長く、使われている幅が広くなっています。

半導体を用いた電子部品を半導体デバイスといい、IC（集積回路）、メモリ、パワーデバイス（パワー半導体）など様々な種類があります。

その中でもパワーデバイスは、電源などの電力の制御や変換を担っている電子部品です。すべての電子機器はこのパワーデバイスを搭載しています。

以前までパワーデバイスの主たる素材はシリコンだったのですが、近年はワイドギャップ半導体が注目されています。

ワイドギャップ半導体とは、シリコンよりもバンドギャップ（価電子帯の電子と伝導帯の電子とのエネルギー差）が大きい半導体のことです。

バンドギャップが大きいと、高耐圧化や、低損失化、スイッチングスピードの高速化、デバイスの小型化などを実現することができます。

すでに、シリコンカーバイド（SiC）が高耐圧で、窒化ガリウム（GaN）が高周波の領域で製品化され、シリコンよりも高い性能を発揮しています。

そして、酸化ガリウム（Ga2O3）は、シリコンカーバイド・窒素ガリウムに次ぐ、第3の次世代パワーデバイス材料として注目されています。

酸化ガリウムは、シリコンカーバイド・窒素ガリウムよりもバンドギャップが大きく、理論上はシリコンカーバイド・窒素ガリウムよりも低損失のパワーデバイスを実現することができます。

また酸化ガリウムはシリコンカーバイド・窒素ガリウムよりも製造コストが低減できる可能性があるため、高性能かつ低価格を実現できるものとして大きく注目されています。

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