多能性(R)中間膜・エピタキシャルの研究開発・製造・販売を行う「Gaianixx」が10億円調達

2023年6月30日、株式会社Gaianixxは、総額10億円の資金調達を実施したことを発表しました。

Gaianixxは、多能性(R)中間膜と、エピタキシャルの研究開発・製造・販売を行っています。

多能性(R)中間膜は、基板と半導体膜の格子不整合を駆動力として双晶型マルテンサイト変態を生じ、格子不整合を緩和し上部半導体膜を高品質結晶化させる独自の中間膜です。

従来のものより変位量・耐熱性・耐電圧において優位性があり、次世代の電子デバイス、センサー、エネルギーハーベシティングシステムなどの基盤として期待されています。

今回の資金は、研究開発の強化、採用強化に充当します。

半導体は、電気を通す導体と電気を通さない絶縁体の中間に位置する物質です。半導体は特定の条件下で電気を通したり通さなかったりする伝導特性を持っています。

ほとんどの電子部品は半導体を利用しており、近年は電子機器などの高性能化に応じ、より高性能で安価な半導体のニーズが高まっています。

半導体の製造において重要なのが「薄膜」の技術です。半導体は、薄膜をパターン上に加工し堆積させることでつくられています。

Gaianixxは、半導体業界で困難とされてきた多層での高品質単結晶化を独自の多能性(R)中間膜によって実現し、半導体の技術革新をリードすることを目指しています。

半導体の中間膜は、異なる層や機能の間に挿入される薄膜であり、半導体素子の性能・機能向上や制御のために使用されます。

Gaianixxの技術は、より多機能な半導体素材の作製に資するほか、結晶欠陥の発生を抑制し、品質の高い半導体素材の提供の実現、効率的な生産やコスト削減を実現します。

研究開発には多くの資金が必要となります。シリーズ累計発行部数200万部を突破した起業ノウハウ集「冊子版創業手帳」の別冊「資金調達手帳」では、VCから出資を受けるためのノウハウなどを詳しく解説しています。