2026年6月29日、EUVフォトン株式会社は、総額8億8000万円の資金調達を発表しました。

EUVフォトンは、先端半導体の開発に不可欠な極端紫外線（EUV）の照射・解析評価サービスを提供しています。

今回調達した資金は、照射解析装置の導入、サービス提供体制の構築、人材採用に活用します。

半導体の微細化が進むなか、先端半導体の研究開発では極端紫外線（EUV）を用いた評価技術の重要性が高まっています。EUV照射は、半導体材料や試作チップにEUVを照射し、その反応や性能を評価することに使われています。EUVレジストの感度・解像度の評価や、EUVマスクの欠陥評価など、先端半導体の開発に不可欠な役割を担っています。

しかし、EUV照射には専用設備が必要であり、その設備は導入費用に加え運用コストも非常に高額であるため、研究機関や大手半導体メーカーであっても自前で保有することは容易ではありません。そのため、国内では利用可能な設備数や照射時間が限られており、海外の施設を利用せざるを得ないケースが少なくありません。

このような状況から、必要なときにEUV照射や解析評価を外部に委託できるサービスへのニーズが高まっています。こうした背景を踏まえ、EUVフォトンは次世代半導体製造や先端計測領域に不可欠なEUV関連技術の研究開発支援サービスを提供しています。

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